BOWMAN M系列
● X射線光學系統，用於使用μ點多導毛細管光學進行先進薄膜測量，以實現更小的斑點尺寸要求。
● Bowman M系列使用μ-spot多毛細管光學元件實現先進的薄膜測量。這款先進的XRF儀器具有小點，高通量X射線束和大窗口矽漂移檢測器，具有無與倫比的速度，精度和性能。
● 專為ENIG，ENEPIG和Electroless Nickel％P分析而設計，M系列非常適合包括PC板，引線框架，細線和更小光斑尺寸要求的晶圓的應用。
● 在與源距離相同的距離處實現比准直系統高出一百倍以上的通量。
● 雙攝像頭 - 單擊即可呈現250x：
Bowman M series 的多導毛細管光學系統可以將X射線束聚焦到15μm FWHM，並保證在絕對最小尺寸的X射線光斑下具有極高的性能。雙攝像頭系統允許操作員查看整個部件並使用高解析攝像頭放大以精確定位要測量的位置。可編程X-Y平台可以精確地選擇及測量多個點，並自動執行測點識別功能。另外還可以使用2-D映射系統來查看諸如矽晶片的部件的表面區域上的鍍層的形貌。
Bowman M series 專為ENIG，ENEPIG和Electroless Nickel％P分析而設計，M系列非常適合PC板、引線框架、細線和更小光斑尺寸要求的晶圓的應用。標準配置包括15μm多導毛細管光學器件、可編程樣品台。微/宏觀攝像系統有一個放大140倍的攝像頭，具有更高的數位變焦。
產品規格
| 元素範圍： | 鋁 13 到鈾 92 |
| X射線激發： | 50 W（50kV和1mA）微聚焦Mo陽極管（可選其它陽極元素） |
| 檢測器： | 分辨率為 145eV（Mn Ka）或更高的SDD檢測器 |
| 分析 層分析和元素的數量： |
每層5層（4層+底層）和每一層可達10個元素，同時分析多達25個元素 |
| 濾波器/準直器： | 4個主濾波器/多導毛細管FWHM 15um，實際光斑大約30um |
| 焦距深度： | 具有雷射和自動對焦的單一固定焦距0.15" |
| 數字脈衝處理： | 4096CH數字多通道分析儀，具有靈活的成型時間，自動信號處理包括無效時間校正和逃逸峰校正 |
| 電腦： | Intel，CORE i5 3470處理器，8GB DDR3內存，Microsoft Windows 10 Professional 64bit等效 |
| 相機光學： | 1/4″（6mm）CMOS-1280×720 VGA分辨率 |
| 影像倍率： | 雙鏡頭，140倍光學放大和7倍數位放大/9倍光學放大 |
| 電源供應： | 150W，100-240 伏特，頻率範圍為 47Hz 至 63Hz |
| 重量： | 70公斤 |
| 標準電動/可編程 XY： | 台面尺寸：380mm x 330mm / 行程：254mm x 254mm |
| 特大可編程 XY： | 台面尺寸：810mm x 835mm / 行程：400mm x 400mm |
| 內部尺寸： | 高度：140 mm，寬度：335 mm，深度：310 mm |
| 外形尺寸： | 高度：520 mm，寬度：455 mm，深度：610 mm |